AI需求带动半导体靶材量价齐升，远期全球市场规模有望超70亿美元

AI需求正带动半导体溅射靶材量价齐升，远期全球市场规模有望超过70亿美元，较当前有翻倍空间。 这一判断建立在晶圆厂设备支出继续增长的预期上：2026至2027年中国300mm晶圆厂设备支出预计维持双位数增长，资本开支将向靶材采购传导。 技术层面，磁控溅射因材料与基板可选范围广、膜厚易控、附着力强，已成为工业化薄膜制备的主流技术。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。