AI需求带动半导体靶材量价齐升，远期全球市场规模有望超70亿美元

AI需求带动半导体溅射靶材量价齐升，全球远期市场规模有望超70亿美元，较当前有翻倍空间。2026-2027年中国300mm晶圆厂设备支出维持双位数增长，资本开支向靶材采购传导。磁控溅射相较CVD材料与基板可选范围广、膜厚易控、附着力强，已成工业化薄膜制备主流技术。